IC Manufacturing
GDSII-to-Mask Flow를 위한 솔루션
멘토는GDSII-to-Mask flow의 주된 문제점을 해결하는 특별히 개발된 솔루션을 제공하고 있습니다. 그리하여 높은 웨이퍼 수율을 위해 정밀한 CD(critical dimension) 제어가 가능하게 하고, 마스크 제조 시간, 비용 절감 및 새로운 기술 개발에 필요한 시간과 비용의 감소를 지원합니다.
멘토 툴 패키지는PSM(Phase shift mask), SB(Scattering bars), OPC(optical proximity correction) 처럼 RET(Resolution enhancement )를 위한 데이터처리를 빈틈없이 통합했을 뿐만 아니라, MRC(Mask Rule Check), MPC(Mask writer Process Correction), 데이터 포맷 변환까지도 한 번의 실행만으로도 가능합니다. 우리의 솔루션은 일반적인 hierarchy database와 geometry 처리 엔진을 기반으로 layer derivation, mirroring, scaling, rotation, planarization fill 그리고 글로벌/선택적 사이징과 같은 기능을 제공하여 GDSII 뿐만 아니라 MEBES, VSB (Variable-Shaped-Beam) 포맷과 같이 subwavelength 시대에 첨단 마스크 제작시 가장 중요한 마스크 생성 포맷 형태의 결과물도 제공합니다.
Leading-Edge Mask Enhancement and Fabrication
지난 10년간 우리는 수십여 개의 fab이 마스크 품질을 개선하고 design-to-mask TAT(turnaround time)을 개선하도록 지원하였습니다.
- 최고의 기술
- 툴 인터페이스와 하드웨어 플랫폼의 폭넓은 선택을 제공하는 유연한 솔루션
- 믿음직한 파트너와 조언자로 고객들의 성공을 견인하는 기술지원
Integrated Design-to-Mask Virtual Manufacturing Flow
- 레이아웃 검증
- DFM (Design-For-Manufacturing)
- 종합적인 RET (Resolution Enhancement Techniques)
- 최첨단의 OPC (Optical Proximity Correction) 와 검증
- 전용 MPC (Mask writer Process Correction)
- Hierarchical MRC (Mask Rule Checking)
- 마스크 프랙쳐링과 마스크 생성 데이터 변환
Open and Accessible
우리의 모든 툴은 개방형으로 다양한 인터페이스를 통하여 접속할 수 있으며 고객의 신속한 tapeout-to-mask를 위한 최적화된 플로우를 제공하고 있습니다.
- Calibre 와 OASIS 데이터베이스 APIs (Application Programming Interfaces 응용프로그램 프로그래밍 인터페이스)
- 노광 및 계측 APIs
- 일반적인 rule과 제어 언어
IC Manufacturing Design Tools
Calibre® Computational Lithography
Calibre computational lithography solution은 다중의 프로세스 조건에서 견고하고 안정적인 제조 프로세스를 지원하면서 이미지 충실도를 보장하는 혁신적이며 핵심적인 기술을 제공합니다.
Calibre Mask Process Correction
Calibre Mask Process Correction 솔루션은 멘토의 Model-Based OPC 기술을 적용하여 특별히 e-beam 마스크 생성기를 위해 최적화되었습니다.
Calibre Mask Data Preparation
멘토의 Mask Data Preparation (MDP) 솔루션은 Calibre 플랫폼과 완벽하게 호환되며 공통된 언어를 사용하여 하나의 mask fabrication batch run안에서 전 resolution enhancement process와 마스크 데이터 포맷 변환 업무가 완성될 수 있도록 합니다.
Techpubs and Successes
IC Manufacturing Techpubs
A User-programmable Link between Data Preparation and Mask Manufacturing Equipment
Techpub: 마스크 제조 장비를 가동시키면서 디자인 지식을 제대로 활용하고 디자인 사슬의 상위 제조 정보에 대한 효율적인 피드백을 가능하기 위해서… Techpub 보기
Adaptive OPC Approach Based on Image Simulation
Techpub: 디자인 룰이 급격하게 줄어들면서, 칩의 레이아웃 패턴이 증가하여 견고한 OPC를 위해서는 훨씬 더 많은 시간을 필요로 하고 있습니다. 또한 완벽한 OPC 를 구현하기 위해서… Techpub 보기
Model-Based Hints for Litho-Hotspots Repair
Techpub: Litho 취약부위를 수정하기 위해서는 layout 의 edge를 어떻게 수정해야 하는가에 대한 사양이 필요합니다. Rule을 구현하는 데 있어서, Litho 취약부위가 없도록 layout의 edge를 수정하는 방법을 찾아내는 것이 어렵습니다. Techpub 보기
Executive Brief: Meeting the Critical Challenges of IC Implementation
At the 2008 Design Automation Conference in June, Joseph Sawicki, vice president and general manager of the Design to Silicon Division, laid out Mentor’s strategy to help customers with the challenges they face with IC implementation as they move to smaller process nodes.